排胶烧结一体炉的应用于蒸发膜料靶材陶瓷基板
高温排胶烧结炉的应用于蒸发膜料,溅射靶材,陶瓷基板(氮化铝氧化铝)、玻璃金属烧结外壳电镀陶瓷基板、DBC直接键合陶瓷基板、AMB活性金属焊接陶瓷基板、HTCC高温共烧陶瓷等。从基板材料角度来看,主要有氧化铝,氮化铝,氮化硅,氧化铍等;其焊接材料,电子浆料种类众多,工艺复杂;陶瓷基板及其覆铜板对生产工艺精度要求极其严格,部分关键材料技术门槛高。受益于下游强势增长需求拉动,陶瓷基板及其封装市场将迎来大爆发。目前已在半导体照明、激光、光通信、航空航天、汽车电子等领域得到广泛应用。